Kursplan för Tunnfilmsteknik I

Thin Film Technology I

Kursplan

  • 5 högskolepoäng
  • Kurskod: 1TE016
  • Utbildningsnivå: Avancerad nivå
  • Huvudområde(n) och successiv fördjupning: Teknik A1F, Fysik A1F, Materialteknik A1F, Kemi A1F

    Förklaring av koder

    Koden visar kursens utbildningsnivå och fördjupning i förhållande till andra kurser inom huvudområdet och examensfordringarna för generella examina:

    Grundnivå

    • G1N: har endast gymnasiala förkunskapskrav
    • G1F: har mindre än 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • G1E: innehåller särskilt utformat examensarbete för högskoleexamen
    • G2F: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • G2E: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav, innehåller examensarbete för kandidatexamen
    • GXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras

    Avancerad nivå

    • A1N: har endast kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • A1F: har kurs/er på avancerad nivå som förkunskapskrav
    • A1E: innehåller examensarbete för magisterexamen
    • A2E: innehåller examensarbete för masterexamen
    • AXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras

  • Betygsskala: Underkänd (U), godkänd (3), icke utan beröm godkänd (4), med beröm godkänd (5)
  • Inrättad: 2010-03-16
  • Inrättad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Reviderad: 2022-10-20
  • Reviderad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Gäller från: HT 2023
  • Behörighet:

    130 hp inom teknik/naturvetenskap. Antingen Ytavbildning och genomgången kurs i Yt- och materialanalys eller genomgången kurs i Introduktion till materialteknik och Ytkarakterisering som läses paralellt.. Engelska 6. (Med en svensk kandidatexamen uppfylls kravet på engelska.)

  • Ansvarig institution: Institutionen för materialvetenskap

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna:

  • diskutera skillnader och likheter mellan vakuumbaserade deponeringstekniker för tunna filmer,
  • bedöma och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
  • värdera samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
  • diskutera vanliga tillämpningsområden för tunna filmer,
  • motivera val av deponeringsteknik för olika tillämpningar.

Innehåll

Skiktbeläggning är ett viktigt område inom tillverkningsindustrin där ett materials egenskaper kan förbättras om ytan modifieras. Kursen innehåller deponering med olika PVD-processer som förångning, sputtring och plätering samt olika varianter av kemiska beläggningsmetoder (CVD och ALD). Användning av plasmaprocesser för tillväxt av tunna filmer. Fundamentala kemiska och fysikala processer inom området tunnfilmsteknik. Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper. Tillämpningar för olika tunnfilmsmaterial och deponeringsmetoder.

Undervisning

Föreläsningar, seminarier och laborationer.

Examination

Skriftlig tentamen (4 hp). Laborationer (1 hp).

Om särskilda skäl finns får examinator göra undantag från det angivna examinationssättet och medge att en enskild student examineras på annat sätt. Särskilda skäl kan t.ex. vara besked om särskilt pedagogiskt stöd från universitetets samordnare för studenter med funktionsnedsättning.

Litteratur

Litteraturlista

Gäller från: HT 2023

I bibliotekets söktjänst kan du se om en titel finns elektroniskt.

  • Smith, Donald L. Thin-film deposition : principles and practice

    New York: McGraw-Hill, cop. 1995

    Se bibliotekets söktjänst

  • Martin, Peter M. Handbook of deposition technologies for films and coatings : science, applications and technology

    3rd ed.: Amsterdam: Elsevier Science, 2010

    Se bibliotekets söktjänst