Kursplan för Tunnfilmsteknik I

Thin Film Technology I

Det finns en senare version av kursplanen.

Kursplan

  • 5 högskolepoäng
  • Kurskod: 1TE016
  • Utbildningsnivå: Avancerad nivå
  • Huvudområde(n) och successiv fördjupning: Teknik A1F, Fysik A1F, Materialteknik A1F, Kemi A1F

    Förklaring av koder

    Koden visar kursens utbildningsnivå och fördjupning i förhållande till andra kurser inom huvudområdet och examensfordringarna för generella examina:

    Grundnivå

    • G1N: har endast gymnasiala förkunskapskrav
    • G1F: har mindre än 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • G1E: innehåller särskilt utformat examensarbete för högskoleexamen
    • G2F: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • G2E: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav, innehåller examensarbete för kandidatexamen
    • GXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras

    Avancerad nivå

    • A1N: har endast kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    • A1F: har kurs/er på avancerad nivå som förkunskapskrav
    • A1E: innehåller examensarbete för magisterexamen
    • A2E: innehåller examensarbete för masterexamen
    • AXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras

  • Betygsskala: Underkänd (U), godkänd (3), icke utan beröm godkänd (4), med beröm godkänd (5)
  • Inrättad: 2010-03-16
  • Inrättad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Reviderad: 2011-04-15
  • Reviderad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Gäller från: HT 2011
  • Behörighet:

    130 hp inom teknik/naturvetenskap, inklusive genomgången kurs i Materialanalys.

  • Ansvarig institution: Institutionen för materialvetenskap

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna

  • beskriva och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
  • redogöra för samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
  • redogöra för skillnader och likheter mellan moderna deponeringstekniker för tunna filmer,
  • argumentera för val av deponeringsteknik för olika applikationer.

Innehåll

Deponering med olika plasmaprocesser och PVD-processer som förångning och sputtring samt plätering och olika varianter av CVD (CVD, LPCVD, ALD, PECVD, PEALD). Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Teoretisk modellering inom deponeringsteknik. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper.

Undervisning

Föreläsningar, lektioner och demonstrationer.

Examination

Skriftlig och/eller muntlig tentamen (4 hp) vid kursens slut. Godkända laborationer (1 hp).

Versioner av kursplanen

Litteratur

Litteraturlista

Gäller från: HT 2011

I bibliotekets söktjänst kan du se om en titel finns elektroniskt.

  • Smith, Donald L. Thin-film deposition : principles and practice

    New York: McGraw-Hill, cop. 1995

    Se bibliotekets söktjänst

    Obligatorisk

Skriv ut kursplan och litteraturlista
Skriv ut