Kursplan för Tunnfilmsteknik I

Thin Film Technology I

Det finns en senare version av kursplanen.

Kursplan

  • 5 högskolepoäng
  • Kurskod: 1TE016
  • Utbildningsnivå: Avancerad nivå
  • Huvudområde(n) och successiv fördjupning: Teknik A1F, Fysik A1F, Kemi A1F

    Förklaring av koder

    Koden visar kursens utbildningsnivå och fördjupning i förhållande till andra kurser inom huvudområdet och examensfordringarna för generella examina:

    Grundnivå
    G1N: har endast gymnasiala förkunskapskrav
    G1F: har mindre än 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    G1E: innehåller särskilt utformat examensarbete för högskoleexamen
    G2F: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    G2E: har minst 60 hp kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav, innehåller examensarbete för kandidatexamen
    GXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras.

    Avancerad nivå
    A1N: har endast kurs/er på grundnivå som förkunskapskrav
    A1F: har kurs/er på avancerad nivå som förkunskapskrav
    A1E: innehåller examensarbete för magisterexamen
    A2E: innehåller examensarbete för masterexamen
    AXX: kursens fördjupning kan inte klassificeras.

  • Betygsskala: Underkänd (U), godkänd (3), icke utan beröm godkänd (4), med beröm godkänd (5)
  • Inrättad: 2010-03-16
  • Inrättad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Reviderad: 2013-05-03
  • Reviderad av: Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
  • Gäller från: vecka 27, 2013
  • Behörighet: 130 hp inom teknik/naturvetenskap, inklusive genomgången kurs i Materialanalys.
  • Ansvarig institution: Institutionen för teknikvetenskaper

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna

  • beskriva och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
  • redogöra för samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
  • redogöra för skillnader och likheter mellan moderna deponeringstekniker för tunna filmer,
  • argumentera för val av deponeringsteknik för olika applikationer.

Innehåll

Deponering med olika plasmaprocesser och PVD-processer som förångning och sputtring samt plätering och olika varianter av CVD (CVD, LPCVD, ALD, PECVD, PEALD). Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Teoretisk modellering inom deponeringsteknik. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper.

Undervisning

Föreläsningar, lektioner och demonstrationer.

Examination

Skriftlig tentamen vid kursens slut (4 hp). Godkända laborationer (1 hp).

Litteratur

Litteraturlista

Gäller från: vecka 27, 2013

  • Smith, Donald L. Thin-film deposition : principles and practice

    New York: McGraw-Hill, cop. 1995

    Se bibliotekets söktjänst

    Obligatorisk