Sputtringssystem

Ett specialanpassat system för magnetronsputtring från Prevac möjliggör tillverkning av tunnfilm och olika materialbeläggningar.

Förutom materialkarakterisering och materialmodifiering har vi också möjlighet att direkttillverka tunnfilmer vid Tandemlaboratoriet. Vi har ett specialanpassat system för magnetronsputtring från Prevac som gör det möjligt för oss att tillverka tunnfilmer och beläggningar av olika material.

Att tillverka egna specialanpassade prover är viktigt inom en rad forskningsområden, från material för grön energi till avancerade lösningar för datalagring. Exempel på projekt är sputterdepositionen av EUROFER97 och högrena volframfilmer för fusionstillämpningar, tillväxten av vanadinfilmer för lagring av väte och tillverkningen av fotokroma filmer samt flerskiktade memristorer.

Vy uppifrån in i sputtringskammaren. Fyra svarta cylindrar, magnetronerna, är monterade i kammarens tak. Under dem syns flera materialstycken. Kammaren är fylld av en lila plasma.

Tuning TiO₂ memristors by defect engineering: From short-term memory to recoverable long-term resistance states

Kaur, Rajdeep; Tran, Tuan Thien; Lindblad, Rebecka; Zhang, Zhen et al.

Ingår i ACS Applied Materials and Interfaces, s. 28009-28019, 2026
- DOI för Tuning TiO₂ memristors by defect engineering: From short-term memory to recoverable long-term resistance states
- Ladda ner fulltext (pdf) av Tuning TiO₂ memristors by defect engineering: From short-term memory to recoverable long-term resistance states
Sputter-deposition of ultra-thin film stacks from EUROFER97 and tungsten: characterisation and interaction with low-energy D and He ions

Shams-Latifi, Jila; Pitthan, Eduardo; Tran, Tuan; Kaur, Rajdeep et al.

Ingår i Materials Research Express, 2024
- DOI för Sputter-deposition of ultra-thin film stacks from EUROFER97 and tungsten: characterisation and interaction with low-energy D and He ions
- Ladda ner fulltext (pdf) av Sputter-deposition of ultra-thin film stacks from EUROFER97 and tungsten: characterisation and interaction with low-energy D and He ions

Specifikationer

4 magnetroner, alla användbara samtidigt, vilket tillåter samtidig deponering av upp till 4 olika ämnen.
2 av magnetronerna opereras med likström (DC sputtring) och 2 använder en källa modulerad med en radiofrekvens (RF sputtring); det senare möjliggör deponering även av isolerande material.
Gasinlopp med 3 massflödesregulatorer som tillåter reaktiv sputtring med en gas eller en blandning av gaser.
Maximal substratstorlek: ∅ 50,8 mm (2'').
Roterbar provhållare för att säkerställa jämnhet i de producerade filmerna.
Möjlighet att upphetta provet.
In situ-övervakning av deponeringshastigheten möjlig med en kvartskristallmikrobalans (QCM) installerad inuti sputtringskammaren.
Grundtryck i sputtringskammaren: < 10^-7 mbar.

Kontakt

Allmänna frågor om laboratoriets verksamhet kan skickas till:
tandemlaboratoriet@physics.uu.se