Sputtringssystem
Förutom materialkarakterisering och materialmodifiering har vi också möjlighet att direkt tillverka tunna filmer vid Tandemlaboratoriet. Vi har ett specialanpassat system för magnetronsputtring från Prevac som gör det möjligt för oss att tillverka filmer och beläggningar av olika material.
Tidigare projekt inkluderar depositionen av EUROFER97-stål och högrena volframfilmer för fusionstillämpningar, tillväxt av vanadinfilmer för studier av vätgaslagring samt tillverkning av fotokroma filmer.
Ingår i Materials Research Express, 2024
- DOI för Sputter-deposition of ultra-thin film stacks from EUROFER97 and tungsten: characterisation and interaction with low-energy D and He ions
- Ladda ner fulltext (pdf) av Sputter-deposition of ultra-thin film stacks from EUROFER97 and tungsten: characterisation and interaction with low-energy D and He ions
Specifikationer
- 4 magnetroner, alla användbara samtidigt, vilket tillåter samtidig deponering av upp till 4 olika ämnen.
- 2 av magnetronerna opereras med likström (DC sputtring) och 2 använder en källa modulerad med en radiofrekvens (RF sputtring); det senare möjliggör deponering även av isolerande material.
- Gasinlopp med 3 massflödesregulatorer som tillåter reaktiv sputtring med en gas eller en blandning av gaser.
- Maximal substratstorlek: ∅ 50,8 mm (2'').
- Roterbar provhållare för att säkerställa jämnhet i de producerade filmerna.
- Möjlighet att upphetta provet.
- In situ-övervakning av deponeringshastigheten möjlig med en kvartskristallmikrobalans (QCM) installerad inuti sputtringskammaren.
- Grundtryck i sputtringskammaren: < 10-7 mbar.
Kontakt
- Allmänna frågor om laboratoriets verksamhet kan skickas till:
- tandemlaboratoriet@physics.uu.se