Tunnfilmsteknik I

5 hp

Kursplan, Avancerad nivå, 1TE016

Det finns en senare version av kursplanen.
Kod
1TE016
Utbildningsnivå
Avancerad nivå
Huvudområde(n) med fördjupning
Fysik A1F, Kemi A1F, Materialteknik A1F, Teknik A1F
Betygsskala
Underkänd (U), godkänd (3), icke utan beröm godkänd (4), med beröm godkänd (5)
Fastställd av
Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden, 3 maj 2013
Ansvarig institution
Institutionen för materialvetenskap

Behörighetskrav

130 hp inom teknik/naturvetenskap, inklusive genomgången kurs i Materialanalys.

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna

  • beskriva och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
  • redogöra för samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
  • redogöra för skillnader och likheter mellan moderna deponeringstekniker för tunna filmer,
  • argumentera för val av deponeringsteknik för olika applikationer.

Innehåll

Deponering med olika plasmaprocesser och PVD-processer som förångning och sputtring samt plätering och olika varianter av CVD (CVD, LPCVD, ALD, PECVD, PEALD). Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Teoretisk modellering inom deponeringsteknik. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper.

Undervisning

Föreläsningar, lektioner och demonstrationer.

Examination

Skriftlig tentamen vid kursens slut (4 hp). Godkända laborationer (1 hp).

FÖLJ UPPSALA UNIVERSITET PÅ

facebook
instagram
twitter
youtube
linkedin