Behörighetskrav

130 hp inom teknik/naturvetenskap. Antingen Ytavbildning och genomgången kurs i Yt- och materialanalys eller genomgången kurs i Introduktion till materialteknik och Ytkarakterisering som läses parallellt. Engelska 6. (Med en svensk kandidatexamen uppfylls kravet på engelska.)

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna:

• diskutera skillnader och likheter mellan vakuumbaserade deponeringstekniker för tunna filmer,
• bedöma och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
• värdera samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
• diskutera vanliga tillämpningsområden för tunna filmer,
• motivera val av deponeringsteknik för olika tillämpningar.

Innehåll

Skiktbeläggning är ett viktigt område inom tillverkningsindustrin där ett materials egenskaper kan förbättras om ytan modifieras. Kursen innehåller deponering med olika PVD-processer som förångning, sputtring och plätering samt olika varianter av kemiska beläggningsmetoder (CVD och ALD). Användning av plasmaprocesser för tillväxt av tunna filmer. Fundamentala kemiska och fysikala processer inom området tunnfilmsteknik. Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper. Tillämpningar för olika tunnfilmsmaterial och deponeringsmetoder.

Undervisning

Föreläsningar, seminarier och laborationer.

Examination

Skriftlig tentamen (4 hp). Laborationer (1 hp).

Om särskilda skäl finns får examinator göra undantag från det angivna examinationssättet och medge att en enskild student examineras på annat sätt. Särskilda skäl kan t.ex. vara besked om särskilt pedagogiskt stöd från universitetets samordnare för studenter med funktionsnedsättning.