Behörighetskrav

130 hp inom teknik/naturvetenskap, inklusive genomgången kurs i Materialanalys.

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna

• diskutera skillnader och likheter mellan vakuumbaserade deponeringstekniker för tunna filmer,
• bedöma och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
• värdera samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
• diskutera vanliga tillämpningsområden för tunna filmer,
• motivera val av deponeringsteknik för olika tillämpningar.

Innehåll

Deponering med olika PVD-processer som förångning, sputtring och plätering samt olika varianter av kemiska beläggningsmetoder (CVD och ALD). Användning av plasmaprocesser för tillväxt av tunna filmer. Fundamentala kemiska och fysikala processer inom området tunnfilmsteknik. Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper. Tillämpningar för olika tunnfilmsmaterial och deponeringsmetoder.

Undervisning

Föreläsningar, seminarier och demonstrationer.

Examination

Skriftlig tentamen vid kursens slut (4 hp). Laborationer (1 hp).