Tunnfilmsteknik, 5 hp
Thin film technology
Kursinformation
Undervisningsspråk: Engelska
Tid då kursen ges: Period 3 (VT 2026)
Undervisningsformat, på campus eller digitalt: Campus
Rekommenderade förkunskaper
Grundläggande kunskaper i materialkemi/fysik.
Kursens mål
Kursen ger en introduktion till syntes av tunnfilmsmaterial och beläggningar. Möjliga tillämpningar inkluderar tunnfilmer för strukturer såsom transistorer, solceller, sensorer eller batterier. Syftet är att ge en förståelse för olika deponeringstekniker och sambandet mellan tillväxtförhållanden och materialegenskaper, snarare än att beskriva detaljerad teknikimplementering.
Efter kursen förväntas deltagarna kunna:
- Identifiera de viktigaste tillväxtförhållandena för ett aktuellt material/tillämpning
- Jämföra tillgängliga deponeringstekniker och välja den mest lämpliga
- Utforma en deponeringsprocess
- Uppskatta deponeringsförhållanden baserat på aktuell kunskap
- Bestäm möjliga felkällor och modifiera experimenten
- Tillämpa kunskapen utanför det egna forskningsområdet, till exempel i industriella sammanhang
Hur kursen relaterar till mål för examen på forskarnivå
MÅL | Hur adresseras målen? |
Kunskap och förståelse |
|
Färdighet och förmåga |
|
Värderingsförmåga och förhållningssätt |
|
Kursinnehåll
Beläggning av tunnfilmer med fysikaliska (PVD) och kemiska (CVD och ALD) tekniker med fokus på grundläggande fysikaliska och kemiska processer. En kort översikt över solgel och elektrokemisk deponering.
Huvudämnen som behandlas i kursen är: Förångming, sputtering, jonplätering samt CVD och ALD. Plasmateknik för tunnfilmer. Substratets effekt på filmtillväxt och tekniker för ytmodifiering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Morfologi och textur och deras inverkan på materialegenskaper. Solgel, elektrokemisk beläggning. Exempel på tillämpningar inom tunnfilmsmaterial med olika tekniker.
Undervisning
Kombination av föreläsningar och seminarier: Varje modul introduceras i en föreläsning där deltagarna presenterar specifika ämnen under ett uppföljningsseminarium. Huvudfokus ligger på de teoretiska principerna, endast en kort översikt över den praktiska implementeringen ges. Labbdemonstrationer ges också. Element från fysik, kemi och teknik krävs och fyra föreläsare från tre institutioner bidrar till kursen.
Med tanke på studenternas varierande bakgrund ligger fokus på aktivt lärande, vilket underlättas av en kombination av traditionella föreläsningar och seminarier, där deltagaren förbereder svar på en uppsättning frågor som diskuteras under seminariet. Lärarna är aktivt närvarande under seminarierna, styr diskussionen och ser till att alla deltagare är aktiva. Aktiviteten på seminarierna betygsätts och aktivt engagemang krävs för att klara kursen.
Även om det inte finns någon gräns för antalet deltagare i föreläsningarna, är seminarierna svåra med grupper större än 10 personer. Därför föreslår vi att begränsa seminariestorleken till 10 personer och, om nödvändigt, dela upp deltagarna i två grupper för att öka kapaciteten till 20 deltagare.
Det finns möjlighet till en praktisk demonstration av tunnfilmsprocesser på Myfab Uppsala. Denna del av kursen anpassas utifrån deltagarnas profil.
Examination
Presentationer och uppgifter under kursen, muntlig examination på slutet av kursen.
Examinator
Tobias Törndahl, tobias.torndahl@angstrom.uu.se och Tomas Kubart, tomas.kubart@angstrom.uu.se
Huvudansvarig institution
Institutionen för materialvetenskap
Kontaktperson/er
Tobias Törndahl, tobias.torndahl@angstrom.uu.se
Ansökan
Skicka anmälan till kursen till: Tobias Törndahl, tobias.torndahl@angstrom.uu.se
Skicka anmälan senast: 2026-01-15