Behörighetskrav

Examen på grundnivå om minst 180 hp inklusive 50 hp i materialteknik och materialvetenskap, varav minst 10 hp materialkemi, 10 hp tekniska material/konstruktionsmaterial och 5 hp materialfysik, samt 25 hp matematik. Engelska 6. (Med en svensk kandidatexamen uppfylls kravet på engelska.)

Mål

Kursens syfte är att introducera moderna ytkarakteriseringsmetoder vilka används inom både akademisk och industriell forskning och utveckling.

Efter godkänd kurs ska studenten kunna:

• motivera och diskutera val av metod för ytkarakterisering genom att jämföra prestanda för och bedöma lämplighet av olika metoder utifrån en given frågeställning,
• beskriva principerna, inklusive växelverkan mellan prob och provyta, för ytavbildning och profilmätning med elektron-, ljus-, interferens- och svepspetsmikroskop, samt beskriva konstruktionen av vissa instrument,
• beskriva principerna för svepelektronmikroskopi (SEM) och röntgenspektroskopi (EDS) i SEM,
• beskriva principerna för hårdhetsmätning och nanoindentation,
• förklara och värdera resultat och kvalitet och beskriva inverkan av inställningar och prestanda hos instrumenten.

Innehåll

Avbildning, beskrivning och mätning av ytor. Metoder som behandlas är bl.a. svepelektronmikroskopi (SEM), röntgenspektroskopi i SEM (EDS), ljusmikroskopi (LOM), interferensmikroskopi (CSI), svepspetsmikroskopi (AFM, etc), nålprofilometri, ytstatistik, hårdhetsmätning och nanoindentation.

Undervisning

Föreläsningar, seminarier, laborationer.

Examination

Skriftlig tentamen (4 hp). Laborationer, övningar och uppgifter(1 hp).

Om särskilda skäl finns får examinator göra undantag från det angivna examinationssättet och medge att en enskild student examineras på annat sätt. Särskilda skäl kan t.ex. vara besked om särskilt pedagogiskt stöd från universitetets samordnare för studenter med funktionsnedsättning.