Behörighetskrav

Examen på grundnivå om minst 180 hp med 70 hp inom ämnena fysik, kemi, materialvetenskap och/eller materialteknik samt 20 hp inom matematik. Dessutom krävs kunskaper i engelska motsvarande Engelska 6. (Med en svensk kandidatexamen uppfylls kravet på engelska.)

Mål

Efter godkänd kurs ska studenten kunna:

• motivera och diskutera val av metod för ytkarakterisering genom att jämföra prestanda för och bedöma lämplighet av olika metoder utifrån en given frågeställning,
• beskriva principerna, inklusive växelverkan mellan prob och provyta, för ytavbildning och profilmätning med elektron-, ljus-, interferens- och svepspetsmikroskop, samt beskriva konstruktionen av vissa instrument,
• beskriva principerna för svepelektronmikroskopi (SEM) och röntgenspektroskopi (EDS) i SEM,
• beskriva principerna för hårdhetsmätning och nanoindentation,
• förklara och värdera resultat och kvalitet och beskriva inverkan av inställningar och prestanda hos instrumenten.

Innehåll

I kursen introduceras moderna ytkarakteriseringsmetoder för avbildning, beskrivning och mätning av ytor. Metoder som behandlas är bl.a. svepelektronmikroskopi (SEM), röntgenspektroskopi i SEM (EDS), ljusmikroskopi (LOM), interferensmikroskopi (CSI), svepspetsmikroskopi (SPM), nålprofilometri, ytstatistik, hårdhetsmätning och nanoindentation. Metoderna används inom både akademisk och industriell forskning och utveckling.

Undervisning

Föreläsningar, seminarier, laborationer.

Examination

Skriftlig tentamen (4 hp). Laborationer, övningar och uppgifter (1 hp).

Om särskilda skäl finns får examinator göra undantag från det angivna examinationssättet och medge att en enskild student examineras på annat sätt. Särskilda skäl kan t.ex. vara besked om särskilt pedagogiskt stöd från universitetets samordnare för studenter med funktionsnedsättning.